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Characterization in Silicon Processing Yale Strausser This volume is devoted to the consideration of the use use of surface, thin film and interface characterization tools in support of silicon-based semiconductor processing. The approach taken is to consider each of the types of films used in silicon devices individually... Editeur : Newnes Parution : 2013-10-22 PDF sans DRM 57,97 € J'achète Téléchargement immédiat Dès validation de votre commande

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