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Nicolas Posseme is a Senior Research Scientist in MIcrotechnologie & Nanotechnology and Deputy Head of Plasma Etching & Stripping in the Silicon Technologies division at the CEA-LETI Laboratory in Grenoble, France.
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Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization

Nicolas Posseme

Iste Press - Elsevier

2017-01-25

PDF, epub sans DRM

Plasma etching has long enabled the perpetuation of Moore's Law. Today, etch compensation helps to create devices that are smaller than 20 nm. But, with the constant downscaling in device dimensions and the emergence of complex 3D structures (like...

61,14 €

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