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Feuilleter Ion Implantation and Synthesis of Materials James W. Mayer , Michael Nastasi Ion implantation is one of the key processing steps in silicon integrated circuit technology. Some integrated circuits require up to 17 implantation steps and circuits are seldom processed with less than 10 implantation steps. Controlled doping at controlled depths is... Editeur : Springer Parution : 2007-05-16 PDF 94,94 € J'achète Téléchargement immédiat Dès validation de votre commande

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